简要描述:台式光刻机参数:1.最大曝光面积:160mm*160mm。⒉.曝光分辨率:1um(胶厚≤0.5um的正胶)。3.对准精度:±1um(标准晶圆抛光片)。4.光源强度:35mW/cm2。5.曝光波长:LED...

新闻中心实验室光刻机的工作原理与技术特点.实验室光刻机是半导体制造过程中重要的设备之一,广泛应用于集成电路的生产...

技术文章台式光刻机的主要组成部分及其功能.台式光刻机是微电子制造过程中重要的设备,广泛应用于半导体芯片的制造、微电子器件的生产等领域...

新闻中心台式光刻机的精度控制与优化方法.台式光刻机是微电子制造中重要的设备,广泛应用于半导体芯片的制作过程中,尤其在微纳米级别的结构图案刻蚀中发挥着重要作用...

简要描述:实验室光刻机参数:1.曝光面积:160mm*160mm.实验室光刻机是半导体制造过程中一种关键设备,用于将电路图案从掩模(mask)转印到硅片表面的光敏材料(光刻胶)上。光刻是...

价格：￥面议 品牌名：国外类型：其它各类仪器DMD无掩膜光刻机,DMD无掩膜光刻机产品负责人:姓名:郭工(Barry)电话:186 2116 1670(微信同号)邮箱:wei-guo@auniontech.comDMD无掩...www.bio-equip.com