光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photoli... 详情>>概要 - 主要厂商 - 品牌 - 分类 - 全部baike.so.com

2025年11月26日 - 公开资料显示,芯上微装成立于2025年02月,是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的创新型科技企业,目前主力产品为晶圆级先进封装光刻机...news.mydrivers.com

2025年6月23日 - 荷兰阿斯麦(ASML)是全球唯一一家高端光刻机制造商,每年仅出20台左右高端设备,每一台都被台积电和三星等大型芯片代工厂抢破了头。.目前公司IC前道光刻...

复制纠错#光刻机#EUV光刻机快科技7月17日消息,光刻机龙头ASML现在宣布,全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。.按照官方的说法,EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改...news.mydrivers.com