光刻机突围战:中国用DUV打出5nm芯片,美国技术封锁出现战略漏洞 设置弹幕颜色 设置弹幕类型 顶部滚动底部 00:00/01:03 速度 洗脑循环 显示弹幕 海量弹幕 弹幕透明度 0.5 0.75 正常 1.25 1.5 2 0...www.163.com

2025年8月24日 - 以上海微电子2023年1月7日推出的28纳米浸没式光刻机为例,其90%的核心部件实现国产化,包括达到德国蔡司级别的光学镜头和日本Disco级别的双工件台.成本...

2024年7月6日 - 华为自主研发光刻机技术核心竞争力独立创新能力指标公式技术分析 RSI指标买卖时机.光刻机,光刻胶,共封装光学(CPO) ...