中科院、上微自主研制成功新型光刻机有望局部实现国产化替代 2016年3月28日 - 日前,中科院光电技术研究所自主研制成功紫外纳米压印光刻机.与此同时,上海微电子也发布了平板显示光刻机,产品良率高达95%(原本的良率为70%-80...www.guancha.cn
光刻机做到哪一步了-今日头条 2025年8月15日 - 全球方面,ASML第二代High-NA EUV光刻机支持2nm量产。.中科院上海光机所:开发的固态DUV激光光源达到商用水平,支持3nm工艺。.上海芯上微装:交付了第500...
我国光刻机从世界前列到落后世界20年,根源就四个字:造不如买 - 今日头条 2026年1月8日 - 这一下,原本打算购买国产光刻机的单位纷纷改了主意,连长期合作的中科院109厂都取消了订单,国产光刻机一下子没了市场,徐端颐教授的团队没办法,只能放弃...