2025年12月23日 - EUV光刻机研发难度极大,需攻克激光等离子体光源、原子级光学系统、高精度双工件台三大核心部件技术.面对封锁,中科院团队在EUV光源技术上取得关键突破,...

中芯遮羞布被扯?ASML争抢光刻机,国产却弃用? 设置弹幕颜色 设置弹幕类型 顶部滚动底部 00:00/04:52 速度 洗脑循环 显示弹幕 海量弹幕 弹幕透明度 0.5 0.75 正常 1.25 1.5 2 00:00 [x] Player ve...www.163.com