2025年10月22日 - 光刻机的争夺,像一场没有硝烟的芯片保卫战.华为自研处理器用上国产5纳米方案,虽然是绕路方案,却已能满足核心需求.参数摆出来:193纳米波长,分辨率65纳...

2025年11月8日 - ·战略新引擎:通过并购和自主研发,向上游芯片设计领域延伸,并布局半导体核心设备(光刻机)等战略制高点。.·客户网络:积累了庞大的下游客户资源,是华为...

2025年8月14日 - 关键观点7: 全国首台国产商业电子束光刻机问世.关键观点10: 华为宣布云晰柔光屏技术升级.精度达0.6纳米,线宽8纳米,专攻量子芯片和新型半导体研发。...