2026年1月22日 - 图形转移是等离子刻蚀机在芯片制造中的重要功效,指将光刻胶上的电路图形精细复刻到下层材料(如硅、金属、介质层)的过程,是芯片从 设计蓝图 变为 实体...

查看详情在线留言PlasmaStar 100/100 RIE反应离子刻蚀机PlasmaStar 100反应离子刻蚀机PlasmaStar 100仪器介绍 PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料,拥有多种...

2026年1月30日 - 多材料兼容是等离子刻蚀机适应多样化芯片需求的重要优势,指设备可通过调整工艺参数(如气体种类、射频功率、温度),对硅、锗、砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN...

2026年1月31日 - 深圳市方瑞科技有限公司在这一领域积累了丰富的经验,其生产的PE-200(ICP)电感耦合等离子刻蚀机,专为半导体制造和微机电系统设计,能够实现高精度的材料...

此外,反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。.它不仅可以用于蚀刻半导体材料,如硅和磷等,还可以用于制造芯片和电路...

2026年1月25日 - 进入店铺等离子刻蚀机作为高精密设备,其日常维护与保养直接关系到工艺稳定性与芯片良率,是半导体工厂生产管理的重要环节.精度与均匀性的重要指标精度...

6天前 - 附近刻蚀机生产厂家2026-02-05.超声等离子 刻蚀机大概多少钱2026-02-05...