光刻机从发明到现在,一直是半导体制造的核心设备,没它啥芯片都别想量产.2025年上半年,项目进入试运行阶段,据中科院的报告,初步测试显示,光束稳定性好,能支持多站并行曝光.他们的极紫外光刻机,能...www.toutiao.com

2025年9月6日 - 中国光刻机 杀疯 了!ASML慌得一批,日本巨头直接 躺平 ?,本视频由明寺历史提供,44次播放,好看视频是由百度团队打造的集内涵和颜值于一身的专业短视频聚...

2025年11月29日 - 目前全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV极紫外光刻机,其核心特点包括:采用13.5纳米波长光源,可支持两纳米以下先进制程,并且正在向high NA(高数值孔径)...

2025年10月20日 - 最近荷兰光刻机圈子彻底打破了平静,ASML这位全球光刻机龙头,再加上给它配套的一众荷兰供应商,明里暗里都在往中国市场靠。.华为联合中科院搞的EUV原型...

电子束光刻机是一种利用高能电子束在光刻胶上进行图案化曝光的精密设备，通过电磁场控制电子束的运动轨迹，可实现纳米级甚至亚纳米级的超高分辨率，无需掩模版即可直接在芯片等基底材料上“手写”电路，广泛应用于量子芯片、新型半导体研发、光掩模... 详情>>工作原理 - 技术优势 - 性能指标 - 应用领域 - 全部baike.so.com