2026年1月19日 - 半导体制造过程中,等离子刻蚀机承担着关键的材料加工任务,设备的稳定性和工艺适应性直接影响芯片良率,这使得高性能产品具备较强的市场竞争力.深圳市方...

2025年10月15日 - 刻蚀机的整体国产化率为20%-30%,为三大设备中最高;中微公司5nm制程刻蚀机实现量产,北方华创的电容耦合等离子体刻蚀设备获批量订单,已进入国内头部逻辑...

2025年3月28日 - 中微半导体,作为中国乃至全球顶尖的刻蚀机制造商,由尹志尧博士于2004年创立.而高端设备制造商ASML则更为乐观地预测,未来芯片技术将持续飞跃,预计在202...

2025年2月12日 - 在尹志尧的比喻里,芯片微观加工就像是剪窗花,薄膜机铺一层材料红纸,光刻机在红纸上画好花纹,刻蚀机把不要的部分刻掉。.半导体设备最关键的三种分别是:...

2026年1月27日 - 多材料兼容是等离子刻蚀机适应多样化芯片需求的重要优势,指设备可通过调整工艺参数(如气体种类、射频功率、温度),对硅、锗、砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN...