2025年3月17日 - 提到没有参观光刻机的情况,表达了对技术研发的关注. 推测华为可能沿用ASML的技术路线,并进行了优化改进...

2024年10月27日 - 单芯逊,集群超:华为 384 芯反超英伟达 #华为 384 超节点反超英伟达#单芯逊集群超 华为算力#华为算力破局 英伟达#升腾 910C 集群 算力领先#华为 384 芯...

2024年8月14日 - EUV光刻机:其最低光波波长约为14.5纳米,实际应用中不同制程对应的波长范围为:7纳米工艺对应25-27纳米波长,5纳米对应22-25纳米,3纳米对应20-22纳米。...

华为为EUV光刻系统中的一个组件申请了专利,该组件是在制造低于10nm制程高端处理器所需的.它解决了由紫外光产生的干涉图案的问题,否则会使晶圆不均匀,这增加了华为未来自己...