2021年12月30日 - 而纵观整个芯片制造流程,其中最复杂也是最前沿的莫过于光刻机。.2018年,中微半导体成功研制7nm的刻蚀机,这是国产造芯的一大进步.想把晶体管越做越小,...

2024年9月19日 - 东海证券认为,目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,短期5~10年内一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键,一方面重...www.stcn.comTIME.rfTime = +new Date;

2025年10月21日 - 外界期待的光刻机并未在此次博览会亮相,不过从新凯来带来的 惊喜 中仍然可以看到国内半导体设备产业链的突破。国产设备多点突破7nm(纳米)及以下高端制...www.inewsweek.cn