光刻机_360百科
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photoli... 详情>>概要 - 主要厂商 - 品牌 - 分类 - 全部baike.so.com
光刻机
光刻机
光刻机核心信息汇总 定义与作用:光刻机是芯片制造核心设备,通过光学投影将掩膜电路图案转移到涂有光刻胶的硅片上,决定芯片制程精度,广泛应用于集成电路、LED、MEMS...
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